하악 임플란트 유지 오버덴쳐에서 임플란트 식립위치의 대칭성 여부에 따른 응력변화에 관한 유한요소법적 연구

Abstract

무치악 환자에서 2개의 임플란트를 이용한 오버덴쳐는 매우 높은 장기적 임플란트 성공률이 보고되고 있다. 오버덴쳐 유지를 위한 임플란트 식립 위치로 좌우측이 동일한 부위를 식립위치로 선택할 수 없는 경우를 가정 할 수 있는데, 이런 경우에 대한 영향을 상대적으로 평가한 자료는 아직 드문 실정이다. 이에 본 연구는 좌우 2개 임플란트의 전후방 위치와 높이를 다르게 하여 이에 따른 임플란트 주변골에 미치는 영향을 유한요소분석법으로 비교하였다.2개의 임플란트가 하악 견치부위에 식립된 완전 무치악 악골 모형을 가정하였다. 악골 모형은 치조제의 협설 폭경은 8mm로 하여 직경 4mm 임플란트 식립시 협설로 2mm의 잔존골이 존재하도록 하였다. 피질골의 두께는 1mm로 가정하였으며 나머지는 모두 해면골로 이루어진 것으로 가정하였다. 의치상과 하악골 사이에 2mm 두께로 점막을 설정하고, 오버덴쳐 부분을 가상한 10mm 두께의 레진판을 설계하였다. 직경 4mm, 길이 10mm 임플란트를 서로 평행하게 같은 높이로 하악 견치 부위에 식립하고 점막 위 2mm에 Locator attachement를 위치시킨 모형을 기본모형으로 하고 실험1에서는 우측 부위에서 원심측으로 2mm후방에 임플란트를 식립한 모형을 기본 모형과 비교하고, 실험2에서는 우측 임플란트의 Locator attachement의 높이를 2mm 더 길게 한 모형을 기본 모형과 비교하였다. 실험3에서는 Locator attachment의 Replacement Male의 효과를 알아 보기 위해서 매식체와 Locator abutment, Replacement Male, Denture Cap을 동일 재료로 일체형으로 만든 모형을 실험1, 2군과 동일 조건에서 비교하여 보았다. 유한요소분석 결과 우측 임플란트를 후방으로 위치한 모형에서 우측 후방에 위치한 임플란트 주변골에 가해지는 응력이 피질골과 해면골에서 모두 증가하였다. Locator attachment의 한쪽 높이를 증가시킨 모형에서 높이가 2mm 더 긴 Locator attachment 부위의 임플란트 주변골에 가해지는 응력이 피질골과 해면골에서 증가 하였다. Locator attachment의 사용이 Locator attachment와 임플란트 매식체를 일체형으로 만든 비완압형 attachment를 사용한 것보다 주변골에서 약 3-6%의 응력의 감소가 관찰되었다. 모든 모형에서 임플란트 주변골의 응력 집중은 Locator attachment, 피질골, 해면골 순이었다. 대칭적 모형에서는 임플란트 주변골의 응력의 집중이 하중이 가해진 후방쪽에 집중 되었으나, 비대칭 모형에서는 집중 부위가 내측으로 이동됨을 볼 수 있었다. 무치악 환자에서 2개의 임플란트를 사용하여 오버덴쳐를 제작 시 Locator attachment는 좌우 대칭되고 동일한 높이로 배열 위치시키는 것이 좌우 임플란트의 응력 분산에 유리한 것으로 나타났다.